作为中国目前最需要突破的一项技术，EUA光刻技术可以说是我们解决光刻机难题，最重要的一环，只有解决这项技术我们才能彻底的摆脱美国对于我国芯片的打压。

但是不少美国专家直言，以中国如今的技术，未来几十年或许都突破不了这项技术，只是令他们没想到的是，一个人的出现，却改变了这个现状，甚至他的出现让中国的EUA光刻技术，有望在不久之后领跑全球。

那么这个人是谁？他又是如何突破这项技术的呢？

林楠的回归

中国芯片制造的发展，如同攀登科技高峰一样困难重重，特别是在高端芯片制造方面，EUV光刻技术是必须攻克的难题，这项技术被视为半导体产业的顶尖技术，目前由少数西方国家掌握，这给中国带来了严峻的技术限制。

ASML的CEO曾断言，中国即使能够研发出EUV光源，也需要“很多很多年”才能制造出完整的EUV光刻机，这句话如果放在几年前或许是事实，但是随着大批的高尖端的人才回归祖国，光刻机似乎已经不是一个梦想了。

而林楠就是那个开启光刻机大门的钥匙，他是曾经在ASML公司负责光刻机光源技术的顶尖科学家，他的学术背景非常厉害，是诺贝尔物理学奖得主的学生，他还拥有超过110项国际专利，对光刻机里最核心的光源技术了如指掌，可以说他是光刻领域绝对的专家。

2021年，林楠做出了一个重要选择，他放弃了在ASML的工作机会，决定回到中国，全身心地投入到中国科学院上海光机所的研究工作中，为祖国的光刻技术发展贡献力量。

他坦承的说选择回国发展既是出于对家庭的责任，也是出于对国家的热爱，因为父母年纪大了，作为独生子，他希望能更多地陪伴在他们身边，尽一份孝心。

但更深层次的原因是强烈的爱国心，他渴望为中国科技事业的腾飞贡献自己的力量，肩负着振兴中华的责任感，ASML公司曾努力说服这位关键的技术人才留下，甚至提出让他调往中国分公司工作，希望以此来留住他。

但是，这些优厚的条件都无法动摇林楠回国效力的决心，报效祖国的信念占据了他的内心，无法被任何物质所替代。

固态激光技术

林楠心里明白，单纯模仿ASML的技术走不远，他在采访里说过，厉害的科技人才更喜欢搞创新，而不是简单照搬，抄别人的技术，就像抄书一样没啥用。

想要真正突破，就得走一条别人没走过的路，做出全新的东西才行，而不是重复别人的工作。只有这样才能取得真正的科技成就，引领行业发展。

于是在回国后，林楠和他的团队坚定地选择了自主研发之路，他们没有直接模仿ASML使用二氧化碳激光的EUV光源技术，而是选择了难度更高的固体激光驱动方案。

起初，这种技术路线并不被大家看好，但经过多年的努力，固体激光在能量密度、转换效率和系统稳定性上都取得了显著进步，它体积小、电光转换效率高的特点，使其有望成为未来EUV光刻机的理想选择。

林楠团队在《中国激光》发表论文，公布了一个重要成果：他们自主研发的EUV实验平台，在用激光激发锡等离子体时，能量转换效率高达3.42%。

这个效率已经超过了荷兰、瑞士等国际顶尖高校的同类研究，并且正在接近目前商用EUV光刻机所使用的二氧化碳激光方案的理论极限5.5%。

更让人惊喜的是，林楠团队推算，他们的方案在理论上可以将能量转换效率提升至接近6%，有机会超越目前全球商用EUV光刻机的最高水平。

他们在《激光与光电子学进展》的论文中，详细介绍了他们使用空间束缚激光锡技术制造宽带极紫外光的方法，并探讨了这项技术在未来先进半导体高频测量领域的应用，这说明中国在极紫外（EUV）光源技术方面取得了重大进展，此前该技术一直被西方国家垄断。

这项突破打破了西方国家的技术壁垒，证明中国科研团队完全有实力在关键技术领域实现自主创新，这标志着中国在高科技领域不再依赖国外，走出了一条独立发展的道路。

自主创新之路

林楠的回归和技术突破是诸多努力汇聚的结果，在我国政府的大力扶持下，中国半导体产业正采取“各个击破、整体整合”的策略，稳步打造国产EUV光刻设备。

中微半导体持续攻克刻蚀技术，华为麒麟芯片强势回归，长光所、中科院等机构也在积极研发EUV核心部件，上海微电子已经量产28nm光刻机，这些都标志着中国芯片产业的崛起。

林楠团队的EUV光源实验平台，是实现这一目标的关键组成部分，ASML越来越感到担忧。虽然美国一直施加压力，但他们还是决定在中国北京建立一个回收和维修中心，这可以被看作是一种变通的方法，为了尽可能地留住人才。

这个举动说明，即使是像ASML这样的西方大公司，也不能忽视中国在全球半导体市场中的巨大地位，毕竟它是全球最大且增长速度最快的市场。

ASML在北京设立中心，也是为了更好地服务中国客户，并分享中国半导体市场快速发展的红利。这反映了全球半导体产业对中国市场的重视。

ASML的焦虑与中国的机遇

2024年，ASML的财务报告显示，中国大陆的市场份额首次超过中国台湾，成为其最大的市场，占据了全球收入的36%以上。这显示出中国市场的巨大需求，也说明ASML非常依赖中国市场。

面对美国的压力和中国自主研发能力的增强，ASML肯定感到担忧，对中国来说，西方的技术限制反而促进了自主创新。半导体行业高度全球化的特点决定了没有哪个国家可以独立完成所有环节。

美国施压也许短期内能看到效果，但长远来看，这反而会激励中国加速自主研发，让技术发展实现从模仿到并肩，甚至领先的转变。

林楠和他的团队正是这种精神的代表。他们不追求名利，默默耕耘，在各个“看似无法实现”的技术难题上稳步前进。

他们是迎难而上的实干家，也是在打压中顽强成长的希望，从目前3.42%的转换效率来看，要造出完整的EUV光刻机还有很长的路要走。国产芯片的研发并非一片空白，中科院的“超分辨光刻装备”、清华团队的新型EUV光刻胶、上海微电子的28nm光刻机，都是中国芯片发展道路上的星星之火。

这些技术突破如同星星之火，预示着中国芯片制造的希望。当这些创新力量汇聚起来，形成燎原之势，必将推动中国芯片制造业迎来崭新的未来，中国芯片制造业的未来，值得期待。