国林科技：臭氧在半导体行业应用于化学气相沉积等工艺制程

金融界8月11日消息，有投资者在互动平台向国林科技提问：公司臭氧半导体设备对碳化硅器件的氧化沉积的作用？

公司回答表示：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括化学气相沉积、原子层薄膜沉积、晶圆清洗、污染物及光刻脚去除、表面处理、氧化物生成等工艺制程，目前被广泛应用于电子工业中。感谢您的关注。

本文源自金融界