ASML 荷兰有限公司申请用于电子光学组件的隔离间隔件专利，间隔件孔径在中间部分处具有增大的尺寸

金融界 2025 年 4 月 19 日消息，国家知识产权局信息显示，ASML 荷兰有限公司申请一项名为“3278.用于电子光学组件的隔离间隔件”的专利，公开号 CN119856243A，申请日期为 2023 年 7 月。

专利摘要显示，带电粒子光学组件操纵一个或多个带电粒子束。该组件包括：上游元件、下游元件和隔离间隔件。上游和下游元件各自包括具有一个或多个孔径的板，该孔径围绕一个或多个带电粒子束的射束路径。间隔件用于将上游元件和元件彼此电隔离。间隔件限定围绕一个或多个带电粒子束的射束路径的间隔件孔径。间隔件包括与上游元件相邻的上游部分、与下游元件相邻的下游部分以及上游部分和下游部分之间的中间部分。上游部分和下游部分相对于中间部分突出，因此与上游部分和下游部分相比，间隔件孔径在中间部分处具有增大的尺寸。

本文源自金融界