今天,一则关于海外可能收紧部分半导体关键材料出口的消息传出,迅速在市场吸引了关注。
从盘面上看,光刻胶相关企业股价快速拉升,带动整个半导体材料及设备板块集体走强。
这一反应背后,或许折射出市场对半导体上游供应链的高度关注。
其实大家要知道,在半导体制造所需的多种核心材料中,海外部分国家凭借长期技术积累,占据了主导地位。
例如,在19种关键半导体材料中,有14种的全球主要供应商集中在少数几家企业手中。
尤其在光刻胶领域,高端产品如ArF和EUV光刻胶的供应几乎由几家国际化工巨头掌控,合计市场份额超过90%。

从技术上来看,这类材料对纯度的要求极为严苛,达到ppt级别(即万亿分之一)。
举一个例子,就是相当于在一个标准游泳池中仅允许混入一滴杂质。
如此高的技术门槛,使得新进入者难以在短期内实现突破。
另外,硅片作为芯片制造的基础载体,同样呈现高度集中格局。

全球300毫米(12英寸)大硅片市场中,前两大供应商合计占据超过一半的份额,目前国内的12英寸硅片采购中,进口依赖度依然较高。
其实,从最近几年以来,国内上下游在面对当前大环境的不确定性,国内很多企业正加速推进关键技术的自主研发。
比如在光刻胶领域,国内光刻胶细分龙头企业经过十余年攻关,产品的进度是在加速,2020年推出首款ArF浸没式光刻胶,2023年完成客户验证,2024年正式进入主流晶圆厂28纳米产线。2025年上半年,其实现500吨级量产,成为目前国内具备ArF光刻胶规模化供应能力的企业。
另外还有一家则在KrF光刻胶实现稳定量产,并在更高阶产品上取得阶段性进展。
所以,尽管当前国产高端光刻胶的良率与国际领先水平仍有差距,但技术和产能的突破还在持续加速中,或许已为后续迭代奠定基础。
在硅片方面,沪硅产业已实现12英寸大硅片的批量供应,良率超过90%,并计划在2025年将月产能提升至30万片。
虽然在晶体缺陷控制等指标上仍需优化,但已初步打破长期需要进口的局面。
设备端,国内已有企业的刻蚀设备国产化率稳步提升,2024年营收增长显著,上海微电子的SSA600系列光刻机已支持90纳米制程的稳定生产,可满足部分成熟工艺需求。

在企业加速推进技术研发的同时,近年来,随着国家对半导体基础环节支持力度加大,产业基金持续向材料、设备及工业软件等领域倾斜。
新一轮大基金资金投入重点聚焦“强链”“补链”,旨在构建更稳健、更具韧性的本土供应链体系。
虽然尽管技术追赶之路依然漫长,这段时间我们已经看到越来越多的“国产首台套”“首批量产”正在出现。
对中国半导体产业而言,当下的目标可能不仅是“有没有”,更是“好不好”“稳不稳”。
基于此,以下梳理半导体材料及设备,各环节,以及对应的价值量占比及国产化率情况。


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更新时间:2025-12-02
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